NTTがAlNトランジスタ、SiCやGaN超えの超低損失パワーデバイスへ – ITpro

NTTがAlNトランジスタ、SiCやGaN超えの超低損失パワーデバイスへ – ITpro

NTTは2022年4月22日、窒化アルミニウム(AlN)トランジスタを開発したと発表した。AlNは、次世代パワーデバイスの材料として、NTTなど一部の研究所で基礎研究が進められている。物性上は炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)よりも損失が小さく耐圧が高いことから、カーボンニュートラルとの親和性が高い。

Source:Nikkei.com 土屋 丈太=日経クロステック/日経エレクトロニクス [read more]

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