Intelが200億ドル(約2兆3000億円)以上の初期投資を行い、アメリカ・オハイオ州に2つの新しい半導体工場を建設する計画を発表しました。この投資は世界中で高まる半導体需要に対応し、生産を拡大し、Intelの新世代の革新的な製品を供給していく戦略「IDM 2.0」の一環となります。
Source:Gigazine.net @GIGAZINE [read more]
Intelが200億ドル(約2兆3000億円)以上の初期投資を行い、アメリカ・オハイオ州に2つの新しい半導体工場を建設する計画を発表しました。この投資は世界中で高まる半導体需要に対応し、生産を拡大し、Intelの新世代の革新的な製品を供給していく戦略「IDM 2.0」の一環となります。
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